Publikationsdetails

Zitat:	Gunther Springholz, Karin Wiesauer, "Fabrication of semiconductor nanostructures by nanoindentation of photoresist layers using atomic force microscopy" , in Journal of Applied Physics , 2000, K. Wiesauer, G. Springholz: Fabrication of semiconductor nanostructures by nanoindentation of photoresist layers using atomic force microscopy, J. Appl. Phys. 88, 7289-7297 (2000).
Original Titel:	Fabrication of semiconductor nanostructures by nanoindentation of photoresist layers using atomic force microscopy
Sprache des Titels:	Englisch
Journal:	Journal of Applied Physics
Erscheinungsjahr:	2000
Notiz zum Zitat:	K. Wiesauer, G. Springholz: Fabrication of semiconductor nanostructures by nanoindentation of photoresist layers using atomic force microscopy, J. Appl. Phys. 88, 7289-7297 (2000).
DOI:	10.1063/1.1324693
Publikationstyp:	Aufsatz / Paper in sonstiger referierter Fachzeitschrift
Autoren:	Gunther Springholz, Karin Wiesauer
Forschungseinheiten:	Abteilung für Halbleiterphysik Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik

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