Publikationsdetails

Zitat:	, "CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductors" , 3-1999, ISBN: 3-901578-04-8, T. Schwarzl, W. Heiß, G. Kocher-Oberlehner, G. Springholz CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductors Proc. Seminar Aktuelle Entwicklungen der Mikroelektronik, Bad Hofgastein 1999, ed. by K. Riedling, p. 197
Original Titel:	CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductors
Sprache des Titels:	Englisch
Englischer Titel:	CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductors
Erscheinungsmonat:	3
Erscheinungsjahr:	1999
Notiz zum Zitat:	T. Schwarzl, W. Heiß, G. Kocher-Oberlehner, G. Springholz CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductors Proc. Seminar Aktuelle Entwicklungen der Mikroelektronik, Bad Hofgastein 1999, ed. by K. Riedling, p. 197
ISBN:	3-901578-04-8
Publikationstyp:	Aufsatz / Paper in Tagungsband (nicht-referiert)
Forschungseinheiten:	Abteilung für Festkörperphysik Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik

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