Publikationsdetails

Zitat:	Günther Bauer, A. Krost, J. Woitok, "High resolution x-ray diffraction" : Optical Characterization of Epitaxial Semiconductor Layers, Seite(n) 287?391, 1996, ISBN: 3-540-59129, A. Krost, G. Bauer, J. Woitok: "High resolution x-ray diffraction", In: G. Bauer, W. Richter (Hrsg.): "Optical characterization of epitaxial semiconductor layers", Berlin, Springer 1996, p. 287-392, ISBN 3-540-59129
Original Titel:	High resolution x-ray diffraction
Sprache des Titels:	Englisch
Original Buchtitel:	Optical Characterization of Epitaxial Semiconductor Layers
Seitenreferenz:	287?391
Erscheinungsjahr:	1996
Notiz zum Zitat:	A. Krost, G. Bauer, J. Woitok: "High resolution x-ray diffraction", In: G. Bauer, W. Richter (Hrsg.): "Optical characterization of epitaxial semiconductor layers", Berlin, Springer 1996, p. 287-392, ISBN 3-540-59129
ISBN:	3-540-59129
DOI:	10.1007/978-3-642-79678-4_6
Publikationstyp:	Aufsatz / Paper in Sammelwerk (referiert)
Autoren:	Günther Bauer, A. Krost, J. Woitok
Forschungseinheiten:	Abteilung für Halbleiterphysik Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik

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