Publikationsdetails

Zitat:	Thomas Schwarzl, Wolfgang Johann Heiß, Gudrun Kocher-Oberlehner, Gunther Springholz, "CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductor Nanostructures" , in Semiconductor Science and Technology, Vol. 14, Seite(n) L11-L14, 1999, T. Schwarzl, W. Heiß, G. Kocher-Oberlehner, G. Springholz: CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductor Nanostructures, Semicond. Sci. Technol. 14, L11-L14 (1999)
Original Titel:	CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductor Nanostructures
Sprache des Titels:	Englisch
Journal:	Semiconductor Science and Technology
Volume:	14
Seitenreferenz:	L11-L14
Erscheinungsjahr:	1999
Notiz zum Zitat:	T. Schwarzl, W. Heiß, G. Kocher-Oberlehner, G. Springholz: CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductor Nanostructures, Semicond. Sci. Technol. 14, L11-L14 (1999)
Anzahl der Seiten:	4
DOI:	10.1088/0268-1242/14/2/003
Reichweite:	international
Publikationstyp:	Aufsatz / Paper in sonstiger referierter Fachzeitschrift
Autoren:	Thomas Schwarzl, Wolfgang Johann Heiß, Gudrun Kocher-Oberlehner, Gunther Springholz
Forschungseinheiten:	Abteilung für Festkörperphysik Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik

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