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"CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductor Nanostructures"
, 1999, T. Schwarzl, W. Heiß, G. Kocher-Oberlehner, G. Springholz: CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductor Nanostructures, Semicond. Sci. Technol. 14, L11-L14 (1999)
Original Titel:
CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductor Nanostructures
Sprache des Titels:
Englisch
Englischer Titel:
CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductor Nanostructures
Erscheinungsjahr:
1999
Notiz zum Zitat:
T. Schwarzl, W. Heiß, G. Kocher-Oberlehner, G. Springholz: CH4/H2 Plasma Etching of IV-VI Semiconductor Nanostructures, Semicond. Sci. Technol. 14, L11-L14 (1999)
Anzahl der Seiten:
4
Publikationstyp:
Aufsatz / Paper in sonstiger referierter Fachzeitschrift
Forschungs-