Publikationsdetails

Zitat:	, "Exact Determination of the Real Substrate Temperature and Film Thickness in Vacuum Epitaxial Growth Systems by Visible Laser Interferometry" , 1995, H. Sitter, G.J.Glanner, M.A. Herman:Exact Determination of the Real Substrate Temperature and Film Thickness in Vacuum Epitaxial Growth Systems by Visible Laser Interferometry, Vacuum 46, 69 (1995)
Original Titel:	Exact Determination of the Real Substrate Temperature and Film Thickness in Vacuum Epitaxial Growth Systems by Visible Laser Interferometry
Sprache des Titels:	Englisch
Englischer Titel:	Exact Determination of the Real Substrate Temperature and Film Thickness in Vacuum Epitaxial Growth Systems by Visible Laser Interferometry
Erscheinungsjahr:	1995
Notiz zum Zitat:	H. Sitter, G.J.Glanner, M.A. Herman:Exact Determination of the Real Substrate Temperature and Film Thickness in Vacuum Epitaxial Growth Systems by Visible Laser Interferometry, Vacuum 46, 69 (1995)
Publikationstyp:	Aufsatz / Paper in sonstiger referierter Fachzeitschrift
Forschungseinheiten:	Abteilung für Festkörperphysik Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik

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