Publikationsdetails

Zitat:	Kurt Hingerl, Roman Holly, "Fabrication of silicon vertical taper structures using KOH anisotropic etching" , in Microelectr. Engineering,, Vol. 83 (4-9), Seite(n) 1430-3, 2006
Original Titel:	Fabrication of silicon vertical taper structures using KOH anisotropic etching
Sprache des Titels:	Deutsch
Journal:	Microelectr. Engineering,
Volume:	83 (4-9)
Seitenreferenz:	1430-3
Erscheinungsjahr:	2006
Anzahl der Seiten:	1
Publikationstyp:	Aufsatz / Paper in SCI-Expanded-Zeitschrift
Autoren:	Kurt Hingerl, Roman Holly
Forschungseinheiten:	CD Labor für oberflächenoptische Methoden (aufgelöst) Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik

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