Publikationsdetails

Zitat:	Kurt Hingerl, Roman Holly, "Fabrication of silicon vertical taper structures using KOH anisotropic etching" , in Microelectronic Engineering, Vol. 83 (4-9), Seite(n) 1430-3, 2006, ISSN: 1873-5568
Original Titel:	Fabrication of silicon vertical taper structures using KOH anisotropic etching
Sprache des Titels:	Deutsch
Journal:	Microelectronic Engineering
Volume:	83 (4-9)
Seitenreferenz:	1430-3
Erscheinungsjahr:	2006
ISSN:	1873-5568
Anzahl der Seiten:	1
DOI:	10.1016/j.mee.2006.01.078
Publikationstyp:	Aufsatz / Paper in SCI-Expanded-Zeitschrift
Autoren:	Kurt Hingerl, Roman Holly
Forschungseinheiten:	Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik

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