I. Hotovy, J. Huran, S. Hascik, J. Liday, Helmut Sitter, L. Spiess,
"The influence of process parameters and annealing temperature on the physical properties of sputtered NiO thin films"
, in Vacuum, Vol. 69, Seite(n) 237-242, 2003
Original Titel:
The influence of process parameters and annealing temperature on the physical properties of sputtered NiO thin films
Sprache des Titels:
Englisch
Journal:
Vacuum
Volume:
69
Seitenreferenz:
237-242
Erscheinungsjahr:
2003
Anzahl der Seiten:
6
Publikationstyp:
Aufsatz / Paper in sonstiger referierter Fachzeitschrift
Forschungs-