Leopold Palmetshofer, M. Gritsch, G. Hobler,
"Range of ion-implanted rare earth elements in Si and SiO2"
, in Materials Science and Engineering B, Vol. 81, Nummer 1-3, Seite(n) 83-85, 2001, L. Palmetshofer, M. Gritsch, G. Hobler Range of ion-implanted rare earth elements in Si and SiO2 Mat. Sci. & Eng. B81, 83-85 (2001)
Original Titel:
Range of ion-implanted rare earth elements in Si and SiO2
Sprache des Titels:
Englisch
Journal:
Materials Science and Engineering B
Volume:
81
Number:
1-3
Seitenreferenz:
83-85
Erscheinungsjahr:
2001
Notiz zum Zitat:
L. Palmetshofer, M. Gritsch, G. Hobler Range of ion-implanted rare earth elements in Si and SiO2 Mat. Sci. & Eng. B81, 83-85 (2001)
Anzahl der Seiten:
3
Reichweite:
international
Publikationstyp:
Aufsatz / Paper in sonstiger referierter Fachzeitschrift