Ultraschall-Mikroskopie zur Charakterisierung der Degradation von Halbleiterschichten
Sprache des Vortragstitels:
Deutsch
Original Tagungtitel:
Messtechnische Anwendungen von Ultraschall
Sprache des Tagungstitel:
Deutsch
Original Kurzfassung:
In diesem Beitrag wird die bildgebende Darstellung der Degradation von Halbleiterschichten mit einem örtlich hoch auflösenden Ultraschall-Mikroskop beschrieben. Die Degradation führt zu lokalen Delaminationen der Metallschichten, die elektrochemisch auf ein Halbleitermaterial niedergeschlagen werden. Durch diese Degradationen entstehen akustische Fehlanpassungen, welche als Ultraschall-Echos detektiert werden können. Eine komplexe Signalverarbeitung ist notwendig um die Degradation aus den aufgezeichneten Ultraschallsignalen zu bestimmen.
Sprache der Kurzfassung:
Deutsch
Englischer Vortragstitel:
Ultrasonic microscope to characterize the degradation of thin metal layers
Englischer Tagungstitel:
Metrological applications of ultrasound
Englische Kurzfassung:
This article deals with imaging representation of the semiconductor layer degradation which is recorded with a high-resolution ultrasonic microscope. The degradation leads to local delaminations in the metal layer, which are applied electrochemically on a semiconducting material. An incorrect acoustic adjustment and a detectable ultrasonic echo are caused by the delaminations. Complex signal processing is required to determine the degradation of the recorded ultrasonic signal.