Publikationsdetails

Zitat:	Thomas Plach, V. Dragoi, Franz Murauer, Kurt Hingerl, "Plasma Activation for Low Temperature Wafer Bonding" , in ECS Transactions - Electrochemical Society, Vol. 16, Seite(n) 549-559, 2008, ISSN: 1938-5862
Original Titel:	Plasma Activation for Low Temperature Wafer Bonding
Sprache des Titels:	Englisch
Journal:	ECS Transactions - Electrochemical Society
Volume:	16
Seitenreferenz:	549-559
Erscheinungsjahr:	2008
ISSN:	1938-5862
Anzahl der Seiten:	11
DOI:	10.1149/ma2008-02/33/2195
Reichweite:	international
Publikationstyp:	Aufsatz / Paper in SCI-Expanded-Zeitschrift
Autoren:	Thomas Plach, V. Dragoi, Franz Murauer, Kurt Hingerl
Forschungseinheiten:	Zentrum für Oberflächen- und Nanoanalytik

Wissenschaftsgebiete:	Oberflächenphysik (ÖSTAT:103020) Optik (ÖSTAT:103021) Nanotechnologie (ÖSTAT:210006)

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