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Zitat: R. Kullmer, Dieter Bäuerle, "Laser-Induced Chemical Etching of Silicon in Chlorine Atmosphere: III. Combined cw- and Pulsed-Irradiation" , in Applied Physics A, Vol. 47, Seite(n) 377-386, 1988, ISSN: 1432-0630
Original Titel: Laser-Induced Chemical Etching of Silicon in Chlorine Atmosphere: III. Combined cw- and Pulsed-Irradiation
Sprache des Titels: Englisch
Journal: Applied Physics A
Volume: 47
Seitenreferenz: 377-386
Erscheinungsjahr: 1988
ISSN: 1432-0630
Anzahl der Seiten: 9
DOI: 10.1007/BF00615502
Reichweite: international
Publikationstyp: Aufsatz / Paper in SCI-Expanded-Zeitschrift
Autoren: R. Kullmer, Dieter Bäuerle
Forschungseinheiten: Institut für Angewandte Physik
Wissenschaftsgebiete: Angewandte Physik (ÖSTAT:1203)
Experimentalphysik (ÖSTAT:1209)
Optik (ÖSTAT:1213)
Laserphysik (ÖSTAT:1230)
Laserspektroskopie (ÖSTAT:1237)
Oberflächenphysik (ÖSTAT:1238)
Polymerphysik (ÖSTAT:1239)
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