Publikationsdetails

Zitat:	, "Range of ion-implanted rare earth elements in Si and SiO2" , 2001, L. Palmetshofer, M. Gritsch, G. Kolber: Range of ion-implanted rare earth elements in Si and SiO2 Mater. Sci. Engin. B81, 83 (2001)
Original Titel:	Range of ion-implanted rare earth elements in Si and SiO2
Sprache des Titels:	Englisch
Englischer Titel:	Range of ion-implanted rare earth elements in Si and SiO2
Erscheinungsjahr:	2001
Notiz zum Zitat:	L. Palmetshofer, M. Gritsch, G. Kolber: Range of ion-implanted rare earth elements in Si and SiO2 Mater. Sci. Engin. B81, 83 (2001)
Publikationstyp:	Aufsatz / Paper in sonstiger referierter Fachzeitschrift
Forschungseinheiten:	Abteilung für Festkörperphysik Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik

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